Евразийский сервер публикаций

Евразийская заявка на изобретение № 202092038

   Библиографические данные

(11) Номер патентного документа

202092038

(21) Номер евразийской заявки

202092038

(22) Дата подачи евразийской заявки

2017.05.09

(51) Индексы Международной патентной классификации

B01D 47/06 (2006.01)
B01D 47/10 (2006.01)
B01D 53/58 (2006.01)
C07C 273/16 (2006.01)
C05C 9/00 (2006.01)

(43)(13) Дата публикации евразийской заявки, код вида документа

A1 2020.11.06 Бюллетень № 11  тит.лист, описание 

(31) Номер заявки, на основании которой испрашивается приоритет

16168796.7

(32) Дата подачи заявки, на основании которой испрашивается приоритет

2016.05.09

(33) Код страны, идентифицирующий ведомство или организацию, которая присвоила номер заявки, на основании которой испрашивается приоритет

EP

(62) Номер и дата подачи первоначальной заявки, из которой выделена данная заявка

201892569; 2017.05.09

(71) Сведения о заявителе(ях)

СТАМИКАРБОН Б.В. (NL)

(72) Сведения об изобретателе(ях)

Хиггинс Брайан Сейр, Тейт III Джон Маршал, Йетс Роберт Артур, Померло Марсель Жульен, Хеон Йон Михал, Диркс Вилфрид Марк Ренат, Колома Гонсалес Хуан (NL)

(74) Сведения о представителе(ях)
или патентном поверенном

Фелицына С.Б. (RU)

(54) Название изобретения

СПОСОБ УДАЛЕНИЯ СУБМИКРОННЫХ ЧАСТИЦ ИЗ ПОТОКА ГАЗА

   Реферат  [ENG]
(57) Описан способ удаления субмикронных частиц из потока газа, содержащего субмикронные частицы, причем указанный поток представляет собой отходящий газ, образующийся при доводке карбамида, включающий стадии, на которых в эжекторе Вентури обеспечивают контактирование указанного потока газа с нагнетаемым высокоскоростным потоком очищающей жидкости для обеспечения прокачивающего действия, при этом очищающая жидкость имеет начальную скорость по меньшей мере 25 м/с и отношение расхода очищающей жидкости и расхода газа составляет от 0,0005 до 0,0015 (м3/ч)/(м3/ч); причем способ включает очистку в двух последовательных ступенях Вентури, при этом каждая из указанных двух ступеней Вентури содержит горизонтально расположенный эжектор Вентури, причем указанные ступени Вентури расположены одна над другой, и обе ступени Вентури соединены очищающей колонной.

 
Назад|  Новый поиск