Евразийский сервер публикаций

Евразийский патент на изобретение № 034615

   Библиографические данные

(11) Номер патентного документа

034615

(21) Номер евразийской заявки

201791415

(22) Дата подачи евразийской заявки

2015.12.01

(51) Индексы Международной патентной классификации

C23C 16/503 (2006.01)
C23C 16/44 (2006.01)
H01L 21/31 (2006.01)
H01L 21/365 (2006.01)
H05H 1/46 (2006.01)

(43)(13) Дата публикации евразийской заявки, код вида документа

A1 2017.10.31 Бюллетень № 10  тит.лист, описание 

(45)(13) Дата публикации евразийского патента, код вида документа

B1 2020.02.27 Бюллетень № 02  тит.лист, описание 

(31) Номер заявки, на основании которой испрашивается приоритет

2014-259378

(32) Дата подачи заявки, на основании которой испрашивается приоритет

2014.12.22

(33) Код страны, идентифицирующий ведомство или организацию, которая присвоила номер заявки, на основании которой испрашивается приоритет

JP

(86) Номер и дата подачи международной заявки

JP2015/083792

(87) Номер и дата публикации международной заявки

2016/104076 2016.06.30

(71) Сведения о заявителе(ях)

ЭйДжиСи ИНК. (JP)

(72) Сведения об изобретателе(ях)

Кавахара Хиротомо, Маесиге Кадзунобу, Аомине Нобутака, Ханекава Хироси (JP)

(73) Сведения о патентовладельце(ах)

ЭйДжиСи ИНК. (JP)

(74) Сведения о представителе(ях)
или патентном поверенном

Медведев В.Н. (RU)

(54) Название изобретения

АППАРАТ ДЛЯ ПЛАЗМЕННОГО CVD

   Формула  [ENG]
(57) 1. Аппарат для плазменного CVD, включающий в себя
источник плазмы, соединенный с источником питания переменного тока или двумя или более источниками питания переменного тока, выполненный с возможностью генерации плазмы; и
матрицу магнитов, выполненную из множества магнитов,
причем источник плазмы имеет группу электродов,
причем группа электродов выполнена посредством расположения n электродов (n является четным целым числом, большим или равным двум), включая первый электрод и второй электрод, в порядке номеров электродов от первого электрода вдоль направления X,
причем каждый из электродов группы электродов соединен с источником питания переменного тока,
причем каждый из электродов группы имеет полую структуру электрода, простирающуюся вдоль направления Y,
причем между смежными электродами группы электродов образован выход проточного канала для газа-прекурсора,
причем матрица магнитов выполнена так, что северный полюс или южный полюс каждого из магнитов обращен к источнику плазмы, и
причем в матрице магнитов по меньшей мере для одной пары двух соседних магнитов обращенные к источнику плазмы полюса располагаются так, что являются одинаковыми, и
причем каждый из магнитов имеет форму бруска, простирающегося вдоль направления Y.
2. Аппарат для плазменного CVD по п.1, причем в матрице магнитов для всех магнитов обращенные к источнику плазмы полюса располагаются так, что являются одинаковыми.
3. Аппарат для плазменного CVD по п.1 или 2, причем число магнитов, включенных в матрицу магнитов, находится в диапазоне от (n-1) до (n+1).
4. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-3,
причем матрица магнитов включает в себя (n-1) магнитов, и
причем магниты расположены, по существу, в положениях, обращенных к каждому из выходов проточных каналов для газа-прекурсора, расположенных в группе электродов, соответственно.
5. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-3,
причем матрица магнитов включает в себя n магнитов, и
причем магниты расположены, по существу, в положениях, обращенных к электродам, составляющим группу электродов, соответственно.
6. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-5,
причем электрическое напряжение, приложенное к n/2 электродам, составляющим группу электродов, обладает полярностью, противоположной электрическому напряжению, приложенному к остальным электродам, и
причем электрические напряжения одинаковой полярности приложены к по меньшей мере одной паре из двух соседних электродов.
7. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-5,
причем электрическое напряжение, приложенное к n/2 электродам, составляющим группу электродов, обладает полярностью, противоположной электрическому напряжению, приложенному к остальным электродам, и
причем электрические напряжения одинаковой полярности приложены к электродам с четными номерами.
8. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-7, дополнительно включающий в себя транспортировочный узел, выполненный с возможностью перемещения подложки, подлежащей обработке, между источником плазмы и матрицей магнитов.
9. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-8, причем каждый электрод группы электродов включает в себя щель для выпуска плазмы.
10. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-9, причем соответствующие электроды группы электродов присоединены к единственному источнику питания переменного тока.
11. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-3, причем магниты расположены непосредственно под зазорами между электродами.
12. Аппарат для плазменного CVD по любому из пп.1-5, причем магниты расположены с регулярными интервалами.
Zoom in


 
   Публикации документа
Раздел бюллетеня

Бюллетень,
дата публикации

Содержание публикации

MM4A
Досрочное прекращение действия евразийского патента из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание евразийского патента в силе

2021-07
2021.07.15

Код государства, на территории которого прекращено действие патента:
AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM
Дата прекращения действия: 2020.12.02.


 
Назад|  Новый поиск