Евразийский сервер публикаций

Евразийский патент № 036427

   Библиографические данные
(11)036427    (13) B1
(21)201890117

 A ]   B ]   C ]   D ]   E ]   F ]   G ]   H ] 

Текущий раздел: C     


Документ опубликован 2020.11.10
Текущий бюллетень: 2020-11  
Все публикации: 036427  
Реестр евразийского патента: 036427  

(22)2016.07.08
(51) C03C 17/23 (2006.01)
C03C 17/245 (2006.01)
C03C 21/00(2006.01)
(43)A1 2018.06.29 Бюллетень № 06  тит.лист, описание 
(45)B1 2020.11.10 Бюллетень № 11  тит.лист, описание 
(31)15177057.5
(32)2015.07.16
(33)EP
(86)EP2016/066298
(87)2017/009235 2017.01.19
(71)АГК ГЛАСС ЮРОП (BE)
(72)Шейверт Флорэн, Дюсулье Лоран, Депо Жан-Мишель (BE)
(73)АГК ГЛАСС ЮРОП (BE)
(74)Квашнин В.П. (RU)
(54)СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ХИМИЧЕСКИ УПРОЧНЕННОЙ СТЕКЛЯННОЙ ПОДЛОЖКИ С КОНТРОЛИРУЕМОЙ КРИВИЗНОЙ
   Формула 
(57) 1. Способ получения химически упрочненной стеклянной подложки с контролируемой кривизной, включающий следующие операции:
a) нанесение покрытия в виде первой временной тонкой пленки, которая снижает степень ионного обмена при химическом упрочнении по меньшей мере на часть первой поверхности стеклянной подложки, первая и вторая противоположные поверхности которой имеют различные ионообменные свойства в их непокрытом состоянии, при этом первая поверхность представляет собой поверхность с высоким ионным обменом и вторая поверхность представляет собой поверхность с низким ионным обменом,
b) химическое упрочнение покрытой стеклянной подложки в ванне с расплавленной солью, содержащей KNO3, при температуре от 400 до 500°C в течение от 20 мин до 24 ч,
c) удаление временной тонкой пленки после указанного химического упрочнения указанным травильным раствором, где указанный травильный раствор представляет собой водный раствор кислоты или основания,
причем подложка имеет толщину от 0,1 до 3 мм и является устойчивой к травильному раствору, указанная первая временная тонкая пленка содержит оксид цинка и имеет толщину от 1 до 200 нм, такую что контролируемая кривизна, полученная в результате химического упрочнения, составляет от -0,04*1/м до 0,04*1/м.
2. Способ по п.1, где нанесение покрытия первой временной тонкой пленкой осуществляют практически по всей первой поверхности подложки.
3. Способ по п.1 или 2, где операцию нанесения покрытия первой, второй и/или третьей временной тонкой пленкой осуществляют путем магнетронного распыления.