Евразийский сервер публикаций

Евразийский патент № 035428

   Библиографические данные
(11)035428    (13) B1
(21)201791399

 A ]   B ]   C ]   D ]   E ]   F ]   G ]   H ] 

Текущий раздел: G     


Документ опубликован 2020.06.15
Текущий бюллетень: 2020-06  
Все публикации: 035428  
Реестр евразийского патента: 035428  

(22)2014.12.25
(51) G02F 1/1333(2006.01)
(43)A1 2017.11.30 Бюллетень № 11  тит.лист, описание 
(45)B1 2020.06.15 Бюллетень № 06  тит.лист, описание 
(31)201410803262.1
(32)2014.12.19
(33)CN
(86)CN2014/094905
(87)2016/095251 2016.06.23
(71)ШЭНЬЧЖЭНЬ ЧАЙНА СТАР ОПТОЭЛЕКТРОНИКС ТЕКНОЛОДЖИ КО., ЛТД. (CN)
(72)Е Яньси (CN)
(73)ШЭНЬЧЖЭНЬ ЧАЙНА СТАР ОПТОЭЛЕКТРОНИКС ТЕКНОЛОДЖИ КО., ЛТД. (CN)
(74)Носырева Е.Л. (RU)
(54)СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЖИДКОКРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ ПАНЕЛИ
   Формула 
(57) 1. Способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий
создание элементов матрицы на первой основе подложки посредством многократных процессов структурирования с формированием подложки матрицы;
нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы;
создание черной матрицы и светофильтра на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра;
определение первой области деформации подложки матрицы и определение второй области деформации подложки светофильтра, при этом первая область деформации расположена в отображающей области и рядом с неотображающей областью;
нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирование углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра;
создание жидкокристаллических ячеек путем соединения подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллической ячейки молекулами жидких кристаллов таким образом, что подложка матрицы выступает с формированием выступа, сформированного в первой области деформации подложки матрицы, причем положение первой области деформации подложки матрицы соответствует положению второй области деформации подложки светофильтра; и глубина углубления примерно равна высоте выступа; и
соединение микросхемы драйвера, выполненной с возможностью поляризации молекул жидких кристаллов, на неотображающей области подложки матрицы.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что после этапа создания элементов матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы способ дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на отображающую область подложки матрицы.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что после этапа создания элементов матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы способ дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на сглаживающий слой матрицы отображающей области подложки матрицы.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирования углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра способ дополнительно включает нанесение второго выравнивающего слоя на сглаживающий слой светофильтра подложки светофильтра.
5. Способ по пп.1 и 4, отличающийся тем, что этап нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирования углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает
нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра;
структурирование сглаживающего слоя светофильтра путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
6. Способ по пп.1 и 4, отличающийся тем, что этап нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирования углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает
нанесение первого сглаживающего слоя светофильтра на подложу светофильтра путем использования процесса структурирования, причем первый сглаживающий слой светофильтра не наносят на вторую область деформации подложки светофильтра; и
нанесение второго сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра, покрытую первым сглаживающим слоем светофильтра, таким образом, чтобы углубление второго сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
7. Способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий
создание отображающих элементов на первой основе подложки посредством многократных процессов структурирования с формированием подложки матрицы;
определение первой области деформации подложки матрицы, при этом первая область деформации расположена в отображающей области и рядом с неотображающей областью;
нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы и формирование углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования;
создание черной матрицы и светофильтра на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра;
нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра;
создание жидкокристаллических ячеек путем соединения подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллических ячеек молекулами жидких кристаллов таким образом, что подложка матрицы выступает с формированием выступа, сформированного в первой области деформации подложки матрицы, причем глубина углубления примерно равна высоте выступа; и
соединение микросхемы драйвера, выполненной с возможностью поляризации молекул жидких кристаллов, на неотображающей области подложки матрицы.
8. Способ по п.7, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя матрицы подложки матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования способ дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на сглаживающий слой матрицы отображающей области подложки матрицы.
9. Способ по п.7, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра способ дополнительно включает нанесение второго выравнивающего слоя на сглаживающий слой светофильтра подложки светофильтра.
10. Способ по п.7, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования способ дополнительно включает
нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы; и
структурирование сглаживающего слоя матрицы путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя матрицы было сформировано на первой области деформации подложки матрицы.
11. Способ по п.7, отличающийся тем, что этап нанесения сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования дополнительно включает
нанесение первого сглаживающего слоя светофильтра на подложку матрицы путем использования процесса структурирования, причем первый сглаживающий слой светофильтра подложки матрицы не размещают на первом сглаживающем слое матрицы; и
нанесение второго сглаживающего слоя светофильтра на подложку матрицы, оснащенную первым сглаживающим слоем матрицы, таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя матрицы было сформировано на первой области деформации на подложке матрицы.
Zoom in