Бюллетень ЕАПВ "Изобретения (евразийские заявки и патенты)"
Бюллетень 06´2019

  

(11) 

032631 (13) B1       Разделы: A B C E F G H    

(21) 

201790100

(22) 

2015.06.17

(51) 

B65G 49/06 (2006.01)
C03C 17/00
(2006.01)
C03C 17/23
(2006.01)
C03C 17/34
(2006.01)
C03C 17/36
(2006.01)

(31) 

1456054

(32) 

2014.06.27

(33) 

FR

(43) 

2017.04.28

(86) 

PCT/FR2015/051606

(87) 

WO 2015/197948 2015.12.30

(71) 

(73) СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС (FR)

(72) 

Ламин Дрисс (FR)

(74) 

Медведев В.Н. (RU)

(54) 

СПОСОБ АКТИВИРОВАНИЯ СЛОЯ НА СТЕКЛЯННОЙ ПОДЛОЖКЕ

(57) 1. Способ активирования слоя, поддерживаемого стеклянной подложкой, включающий термообработку в камере штабеля из нескольких экземпляров стеклянных подложек с активируемым слоем, при этом активируемый слой по меньшей мере одной подложки отделен от соседней подложки порошковой прослойкой.

2. Способ по предшествующему пункту, отличающийся тем, что штабель содержит от 2 до 30 стеклянных подложек.

3. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что штабель в камере опирается, по меньшей мере частично, на кромку подложек.

4. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что штабель опирается на рамную опору.

5. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что в камере размещают от 1 до 20 штабелей.

6. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что в камере размещают несколько штабелей, при этом два соседних штабеля отделены друг от друга на расстояние по меньшей мере 1 см.

7. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что во время термообработки камера является неподвижной и любой штабель в камере является неподвижным.

8. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что стеклянные подложки нагревают при температуре, достаточно низкой для того, чтобы механические свойства стеклянного листа стеклянной подложки не изменялись.

9. Способ по предшествующему пункту, отличающийся тем, что механические напряжения в стекле и ударные свойства стеклянной подложки остаются неизменными в результате термообработки.

10. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что стекло стеклянной подложки не является закаленным.

11. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что термообработка включает температурный максимум ниже точки деформирования стекла, содержащегося в подложке.

12. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что термообработка включает температурный максимум ниже 495°С и даже ниже 450°С.

13. Способ по одному из двух предшествующих пунктов, отличающийся тем, что температурный максимум составляет по меньшей мере 200°С и обычно по меньшей мере 300°С.

14. Способ по предшествующему пункту, отличающийся тем, что стеклянную подложку нагревают в течение по меньшей мере 0,5 ч и предпочтительно в течение по меньшей мере 1 ч при температуре по меньшей мере 300°С.

15. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что слой, подлежащий активированию, наносят магнетронным распылением, при этом термообработка предназначена для увеличения его кристалличности.

16. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что слой, подлежащий активированию, является слоем оксида индия-олова (ITO), или слоем оксида титана, или слоем SiO2, или слоем серебра.

17. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что нагревание выполняют конвекцией горячего воздуха в камере.

18. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что порошковая прослойка является порошком на базе карбоната или силиката кальция и характеризуется значением D90 менее чем 400 мкм и предпочтительно менее чем 200 мкм.

Увеличить масштаб


наверх