Бюллетень ЕАПВ "Изобретения (евразийские заявки и евразийские патенты)"
Бюллетень 05´2017

  

(11) 

026741 (13) B1       Разделы: A B C E F G H    

(21) 

201590324

(22) 

2013.07.23

(51) 

C25B 9/04 (2006.01)
C23C 14/16
(2006.01)
C23C 14/02
(2006.01)

(31) 

102012015802.5

(32) 

2012.08.10

(33) 

DE

(43) 

2015.05.29

(86) 

PCT/EP2013/065522

(87) 

WO 2014/023572 2014.02.13

(71) 

(73) УДЕНОРА С.П.А. (IT)

(72) 

Хоорманн Дирк, Донст Дмитрий, Польцин Грегор, Функ Франк, Вольтеринг Петер, Торос Петер, Хофманн Филипп (DE)

(74) 

Медведев В.Н. (RU)

(54) 

КОНТАКТНАЯ ПОЛОСА ДЛЯ ЭЛЕКТРОЛИЗНЫХ ЯЧЕЕК

(57) 1. Контактная полоса для электролизных ячеек, причем контактная полоса состоит из титановой полосы, которая покрыта слоем никеля и ванадия путем физического осаждения из газовой фазы, при этом содержание ванадия составляет до 10 мас.%.

2. Контактная полоса по п.1, отличающаяся тем, что слой никеля содержит 7 мас.% ванадия.

3. Контактная полоса по п.1 или 2, отличающаяся тем, что слой никеля или никеля-ванадия имеет толщину от приблизительно 0,5 до приблизительно 10 мкм.

4. Контактная полоса согласно по меньшей мере одному из пп.1-3, отличающаяся тем, что слой никеля или никеля-ванадия имеет толщину от приблизительно 1 до приблизительно 8 мкм.

5. Контактная полоса согласно по меньшей мере одному из пп.1-4, отличающаяся тем, что слой никеля или никеля-ванадия имеет толщину от приблизительно 1 до приблизительно 5 мкм.

6. Способ изготовления контактных полос для электролизных ячеек, согласно которому на титановую полосу путем физического осаждения из газовой фазы наносят слой никеля и ванадия, при этом содержание ванадия составляет до 10 мас.%.

7. Способ по п.6, отличающийся тем, что наносят слой никеля, содержащий 7 мас.% ванадия.

8. Способ по п.6 или 7, отличающийся тем, что физическое осаждение из газовой фазы осуществляют путем:

(g) загрузки вакуумной камеры по меньшей мере одной титановой полосой,

(h) закрытия и откачки вакуумной камеры,

(i) очистки подложки введением газообразного восстановителя в вакуумную камеру,

(j) затем удаления газообразного восстановителя,

(k) введения никеля или никеля-ванадия в вакуумную камеру и покрытия титановой полосы слоем толщиной от приблизительно 0,5 до приблизительно 10 мкм путем осаждения из газовой фазы, ионного осаждения или катодного распыления,

(l) наконец, заполнения вакуумной камеры и удаления покрытой подложки из камеры.

9. Способ по п.8, отличающийся тем, что этапы (a)-(f) способа физического осаждения из газовой фазы проводят от одного этапа к следующему в вакууме при различных давлениях, которые устанавливают с помощью инертного газа.

10. Способ согласно по меньшей мере одному из пп.6-9, отличающийся тем, что в качестве способа нанесения покрытия выбирают метод осаждения из газовой фазы из группы термического осаждения, электронно-лучевого осаждения, лазерного осаждения, электродугового напыления и молекулярно-лучевой эпитаксии.

11. Применение никеля с содержанием ванадия до 10 мас.% для нанесения проводящего слоя на титановую полосу путем физического осаждения из газовой фазы.

12. Применение по п.11, отличающееся тем, что используют никель, содержащий 7 мас.% ванадия.

13. Применение титановой полосы, покрытой путем физического осаждения из газовой фазы никелем с содержанием ванадия до 10 мас.%, в качестве контактной полосы для электролизных ячеек.

14. Применение по п.13, отличающееся тем, что используют никель, содержащий 7 мас.% ванадия.

15. Применение по п.13 или 14, отличающееся тем, что применяют титановые полосы с толщиной слоя никеля или никеля-ванадия от приблизительно 0,5 до приблизительно 10 мкм.

Увеличить масштаб


наверх