|
| |
(11) | 023933 (13) B1 |
    Разделы: A B C D E F G H  |
(21) | 201390558 |
(22) | 2011.10.17 |
(51) | B01D 61/00 (2006.01) |
(31) | 61/393,770; 61/393,754 |
(32) | 2010.10.15 |
(33) | US |
(43) | 2014.11.28 |
(86) | PCT/US2011/056516 |
(87) | WO 2012/051610 2012.04.19 |
(71) | (73) ЭВОКУА УОТЕР ТЕКНОЛОДЖИЗ ЭЛЭЛСИ (US) |
(72) | Лин Цзюйчуй Рей (умер) |
(74) | Хмара М.В., Рыбаков В.М., Новоселова С.В., Дощечкина В.В., Липатова И.И. (RU) |
(54) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КАТИОНООБМЕННОЙ МЕМБРАНЫ |
(57) 1. Способ получения катионообменной мембраны, включающий:
a) образование первой суспензии стиролсульфонатной соли металла в органическом растворителе, где соль металла выбрана из группы, состоящей из солей натрия, калия, магния или кальция, а органический растворитель выбран из группы, состоящей из N-метилпирролидона, диметилформамида, диметилацетамида, тетрагидрофурана или диметилсульфоксида;
b) добавление пиридиниевой соли, выбранной из группы, состоящей из хлорида пиридиния, бромида пиридиния, фторида пиридиния или йодида пиридиния, к первой суспензии для получения смешанной суспензии;
c) введение смешанной суспензии в реакцию для получения раствора мономера стиролсульфоновой кислоты или пиридиниевой соли стиролсульфоновой кислоты или их смесей в указанном органическом растворителе в таких условиях, при которых образуется осадок соли металла в качестве побочного продукта; и
е) сбор раствора реагента;
выбор пористой подложки;
пропитывание пористых областей подложки раствором, содержащим стиролсульфоновую кислоту или пиридиниевую соль стиролсульфоновой кислоты или их смеси, причем каждую изготавливают способом, включающим стадии а)-е), или раствором, содержащим стиролсульфоновую кислоту или пиридиниевую соль стиролсульфоновой кислоты или их смеси, причем каждую изготавливают способом, включающим стадии а)-е), нейтральный мономер, сшивающий мономер и инициатор полимеризации;
удаление избытка раствора с поверхностей подложки при оставлении пористого объема, пропитанного раствором;
инициирование полимеризации с помощью тепла, ультрафиолетового света или ионизирующего излучения, с получением сшитого ионопроводящего полимера, практически целиком заполняющего поры подложки.
2. Способ по п.1, дополнительно включающий осуществляемый после этапа с) этап d) удаления из раствора летучих побочных продуктов пиридина и других летучих веществ, таких как вода, в таких условиях, при которых испаряется менее чем приблизительно 5 мас.% указанного органического растворителя.
3. Способ по п.1 или 2, в котором сбор раствора реагента на этапе е) осуществляют после отделения осадка побочного продукта.
4. Способ по любому из пп.1-3, в котором раствор, содержащий стиролсульфоновую кислоту или пиридиниевую соль стиролсульфоновой кислоты или их смеси, изготовленный способом, включающим стадии а)-е), дополнительно включает по меньшей мере один вторичный мономер, сшивающий мономер и инициатор полимеризации, причем по меньшей мере один вторичный мономер представляет собой 2-сульфоэтилметакрилат (2-SEM) или 2-акриламид-2-метилпропансульфоновую кислоту (AMPS) или акриловую кислоту, или выбран из группы, которая включает стирол, винилтолуол, 4-метилстирол, трет-бутилстирол, α-метилстирол; метакриловый ангидрид, метакриловую кислоту, н-винил-2-пирролидон, винилтриметоксисилан, винилтриэтоксисилан, винил-трис-(2-метоксиэтокси)силан, винилиденхлорид, винилиденфторид, винилметилдиметоксисилан, 2,2,2-трифторэтилметакрилат, малеиновый ангидрид, глицидилметакрилат, гидроксиметилметакрилат, метилметакрилат, смесь каркасного эпоксициклогексил-POSS® (ЕР0408), смесь каркасного глицидил-POSS® (EP0409), смесь каркасного метакрил-POSS® (МА0735), смесь каркасного акрило-POSS® (МА0736), трис-(сульфоновая кислота)этил-POSS® (SA1532), трис-(сульфоновая кислота)изобутил-POSS® (SA1533).
5. Способ по любому из пп.1-4, в котором инициирование полимеризации осуществляют при практически полном отсутствии кислорода.
6. Способ по любому из пп.1-5, в котором пористая подложка включает полипропилен, высокомолекулярный полиэтилен, ультравысокомолекулярный полиэтилен или поливинилиденфторид.
7. Способ по любому из пп.1-6, в котором толщина пористой подложки составляет более чем приблизительно 55 мкм и менее чем приблизительно 155 мкм.
8. Способ по любому из пп.1-6, в котором толщина пористой подложки составляет более чем приблизительно 20 мкм и менее чем приблизительно 55 мкм.
9. Способ по любому из пп.1-8, в котором сшивающий мономер представляет собой дивинилбензол или диметакрилат этиленгликоля, диметакрилат пропиленгликоля, диметакрилат изобутиленгликоля, октавинил-POSS® (OL1160), октавинилдиметилсилил-POSS® (OL1163), смесь винил-POSS® (OL1170), октавинил-POSS® (OL1160), трисиланолэтил-POSS® (SO1444), трисиланолизобутил-POSS® (О1450), трисиланолизооктил-POSS® (SO1455), октасилан-POSS® (SH1310), октагидро-POSS® (SH1311).
10. Способ по любому из пп.1-9, в котором инициатор полимеризации выбран из группы, которая включает органические пероксиды, 2,2'-азо-бис-[2,(2-имидазолин-2-ил)пропан]дигидрохлорид, α,α'-азоизобутиронитрил, 2,2'-азо-бис-(2-метилпропиоаминидин)дигидрохлорид, 2,2'-азо-бис-[2,(2-имидазолин-2-ил)пропан] или диметил-2,2'-азо-бис-(2-метилпропионат).
|