Бюллетень ЕАПВ "Изобретения (евразийские заявки и патенты)"
Бюллетень 1´2010

  

(11) 

013136 (13) B1       Разделы: A B C D E F G H    

(21) 

200801267

(22) 

2006.11.02

(51) 

B01D 39/16 (2006.01)

(31) 

PV 2005-700

(32) 

2005.11.10

(33) 

CZ

(43) 

2008.12.30

(86) 

PCT/CZ2006/000077

(87) 

WO 2007/054040 2007.05.18

(71) 

(73) ЭЛЬМАРЦО, С.Р.О. (CZ)

(72) 

Мареш Ладислав, Петраш Давид, Кузель Петр (CZ)

(74) 

Дементьев В.Н. (RU)

(54) 

ФИЛЬТР И ЛИЦЕВАЯ МАСКА ДЛЯ УСТРАНЕНИЯ ФИЗИЧЕСКИХ И/ИЛИ БИОЛОГИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ ИЗ ФИЛЬТРУЕМОЙ СРЕДЫ

(57) 1. Фильтр для устранения физических и/или биологических загрязнений из фильтруемой среды, содержащий по крайней мере два нановолоконных слоя, из которых по крайней мере один содержит частицы по крайней мере одного низкомолекулярного вещества, активно действующего против устраняемого биологического загрязнения, и по крайней мере один, не содержащий таких частиц, отличающийся тем, что в направлении прохождения фильтруемой среды первым нановолоконным слоем является активный нановолоконный слой (2), состоящий из полимерных нановолокон, содержащих частицы по крайней мере одного низкомолекулярного вещества, активно действующего против устраняемого биологического загрязнения или устраняемых биологических загрязнений, а вторым нановолоконным слоем является фильтрующий нановолоконный слой (3), состоящий из полимерных нановолокон, причем поверхностная плотность нановолоконных слоев находится в интервале от 0,1 до 0,3 г/м2, при этом фильтрующий нановолоконный слой (3, 31, 32) соответствующей пары (L, L1, L2) нановолоконных слоев имеет меньшую поверхностную плотность, чем находящийся перед ним в направлении прохождения фильтруемой среды активный нановолоконный слой (2, 21, 22) соответствующей пары (L, L1, L2) нановолоконных слоев, при этом величина промежутков для прохождения фильтруемой среды между нановолокнами фильтрующего нановолоконного слоя (3) меньше величины промежутков для прохождения фильтруемой среды между нановолокнами активного нановолоконного слоя (2) и меньше размеров частиц биологического загрязнения или биологических загрязнений, устраняемых в этом фильтрующем нановолоконном слое (3).

2. Фильтр по п.1, отличающийся тем, что содержит по крайней мере две пары (L1, L2) нановолоконных слоев, каждая из которых предназначена для захватывания и ликвидации разных видов биологического загрязнения или различных биологических загрязнений, при этом в направлении прохождения фильтруемой среды отдельные пары (L1, L2) нановолоконных слоев имеют меньшую величину промежутков для прохождения фильтруемой среды, а каждая следующая пара (L2) нановолоконных слоев предназначена для захватывания и ликвидации меньших частиц биологических загрязнений, чем предыдущая пара (L1) нановолоконных слоев.

3. Фильтр по п.1 или 2, отличающийся тем, что фильтрующий нановолоконный слой (31) предыдущей пары (L1) нановолоконных слоев образует активный нановолоконный слой (22) следующей пары (L2) нановолоконных слоев, при этом он состоит из нановолокон, содержащих по крайней мере одно низкомолекулярное вещество, активно действующее против биологических загрязнений, захватываемых в фильтрующем нановолоконном слое (32) следующей пары (L2) нановолоконных слоев.

4. Фильтр по п.2 или 3, отличающийся тем, что в направлении прохождения фильтруемой среды фильтрующий нановолоконный слой (31) первой пары (L1) нановолоконных слоев состоит из нановолокон, промежутки между которыми для прохождения фильтруемой среды меньше значения, выбранного из интервала 350-1000 нм, а фильтрующий нановолоконный слой (32) второй пары (L2) нановолоконных слоев состоит из нановолокон, промежутки между которыми для прохождения фильтруемой среды меньше значения, выбранного из интервала 10-200 нм.

5. Фильтр по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что промежутки для прохождения фильтруемой среды между волокнами фильтрующего нановолоконного слоя (31) первой пары (L1) нановолоконных слоев составляют от 300 до 700 нм.

6. Фильтр по любому из пп.2-5, отличающийся тем, что промежутки для прохождения фильтруемой среды между нановолокнами фильтрующего нановолоконного слоя (32) второй пары (L2) нановолоконных слоев составляют от 50 до 200 нм.

7. Фильтр по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что полимерные нановолокна активных нановолоконных слоев (2, 21, 22) содержат частицы соответствующего низкомолекулярного вещества или вещество, из которого после сформования в нановолокнах образуются частицы соответствующего низкомолекулярного вещества.

8. Фильтр по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что низкомолекулярным веществом, активно действующим против устраняемого биологического загрязнения, является низкомолекулярное вещество из группы: четырехосновные аммонийные соли и иодиды PVP.

9. Фильтр по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что диаметры нановолокон находятся в пределах от 50 до 700 нм, при этом диаметр нановолокон в отдельных нановолоконных слоях в направлении прохождения фильтруемой среды в каждом последующем нановолоконном слое уменьшается по мере уменьшения величины промежутков для прохождения фильтруемой среды между нановолокнами.

10. Фильтр по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что характеристический размер частиц низкомолекулярного вещества или низкомолекулярных веществ в нановолокнах активных нановолоконных слоев (2, 21, 22) пар (L, L1, L2) нановолоконных слоев находится в пределах от 5 до 100 нм.

11. Лицевая маска для устранения физических и/или биологических загрязнений из вдыхаемого или выдыхаемого воздуха, содержащая наружный и внутренний текстильные слои, отличающаяся тем, что между наружным текстильным слоем (11) и внутренним текстильным слоем (41) расположена пара нановолоконных слоев, содержащая фильтрующий нановолоконный слой (3) с промежутками между нановолокнами до 300 нм, а в направлении прохождения воздуха в зависимости от назначения лицевой маски, перед фильтрующим нановолоконным слоем расположен активный нановолоконный слой (2), состоящий из полимерных нановолокон, содержащих частицы по крайней мере одного бактерицидного низкомолекулярного вещества, причем поверхностная плотность нановолоконных слоев находится в интервале от 0,1 до 0,3 г/м2, при этом фильтрующий нановолоконный слой (3) имеет меньшую поверхностную плотность, чем находящийся перед ним в направлении прохождения фильтруемой среды активный нановолоконный слой (2).

12. Лицевая маска по п.11, отличающаяся тем, что фильтрующий нановолоконный слой (3) расположен в направлении вдыхания воздуха перед внутренним текстильным слоем (41), а между фильтрующим нановолоконным слоем (3), состоящим из полимерных нановолокон, и наружным текстильным слоем (11) расположен активный нановолоконный слой (2), состоящий из полимерных нановолокон с частицами по крайней мере одного низкомолекулярного бактерицидного вещества, введенными в нановолокна активного нановолоконного слоя (2).

13. Лицевая маска по п.11, отличающаяся тем, что фильтрующий нановолоконный слой (3) расположен в направлении выдыхания воздуха перед наружным текстильным слоем (11), а между этим фильтрующим нановолоконным слоем (3), состоящим из полимерных нановолокон, и внутренним текстильным слоем (41) расположен активный нановолоконный слой (2), состоящий из полимерных нановолокон с частицами по крайней мере одного низкомолекулярного бактерицидного вещества, введенными в нановолокна активного нановолоконного слоя (2).

14. Лицевая маска по п.11, отличающаяся тем, что содержит две пары (L1, L2) нановолоконных слоев, которые повернуты друг к другу своими фильтрующими нановолоконными слоями (31, 32).

15. Лицевая маска по п.11, отличающаяся тем, что обе пары (L1, L2) нановолоконных слоев имеют общий фильтрующий нановолоконный слой (312).



наверх